本設(shè)備是由石英坩堝(或氧化鋁陶瓷坩堝)和不銹鋼法蘭組成的真空坩堝爐。主要用于煅燒真空或惰性氣體保護(hù)下的高純度化合物或擴(kuò)散半導(dǎo)體晶片,也可用于烘燒或燒結(jié)陶瓷材料。
型號(hào) | QSH-VCF-1200T | QSH-VCF-1400T | QSH-VCF-1600T |
爐膛尺寸 | O.D.205 x I.D.190 x H340 | O.D.160 x I.D.140 x H200 | O.D.150 x I.D.130 x H200 |
最高工作溫度 | 1200 ℃ | 1400 ℃ | 1600 ℃ |
工作溫度 | 1100 ℃ | 1300 ℃ | 1500 ℃ |
加熱元件 | 含鉬電阻絲 | 硅碳棒 | 硅鉬棒 |
控溫方式 | 51段可編程自動(dòng)控制 | ||
升溫速率 | 0~20 ℃/分 | ||
溫控精度 | ± 1℃ | ||
最大真空度 | -0.1MPa | ||
爐膛材料 | 氧化鋁陶瓷纖維板 | ||
爐殼 | 雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu) | ||
額定電壓 | 220V/380V 50/60Hz |
備注:特殊規(guī)格可根據(jù)客戶(hù)要求定制。
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